四氧化二氮对卫星漫反射试片氟化镁涂层的污染和侵蚀

作者：舒勇华; 刘宏立; 樊菁; 崔季平; 谢冲

来源：中国腐蚀与防护学报, 2005, (02): 70-73+83.

• N2O4
• 漫反射试片
• MgF2涂层
• 表面污染 N 2O 4
• diffusive reflection flake
• MgF 2 coating
• surface contamination

利用漫反射率、X射线光电能谱和质谱等测量方法,研究了固态和气态四氧化二氮(N2 O4)对漫反射试片氟化镁(MgF2 )涂层表面的污染情况.实验表明,固态N2 O4对MgF2 涂层有严重侵蚀作用,N2 O4固粒污染后的涂层表面漫反射率下降了2 0 %～30 % .在一定的时间内,气态N2 O4对涂层表面的影响显著地依赖它的压力.试片在压力为6 9×10 4Pa和2 0 0Pa的N2 O4蒸气中分别放置10min ,前者厚度为4 0 μm的MgF2 涂层基本消失,表面漫反射率下降约2 0 % ;后者涂层表面的原子组成和漫反射率变化很小.还给出了MgF2 涂层表面N2 O4分子吸附摩尔密度,以及与...

• 单位
  中国科学院力学研究所; 高温气体动力学国家重点实验室