在微电子集成领域当中,电子束光刻技术和ICP刻蚀技术是十分重要的技术,能够通过一系列的生产步骤,去除晶圆表面薄膜的特定部分,并在晶圆表面留下微圆形结构的薄膜。光刻与刻蚀技术的应用,对于微电子集成的生产和优化具有重要的作用,因而得到了十分广泛的应用。基于此,本文对电子束光刻技术和ICP刻蚀技术进行了研究,以期能够为这一领域的发展做出贡献。
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
