基于原子层沉积的大曲率基底表面薄膜均匀性研究

作者：来邻; 李旸晖; 周辉; 夏浩盛; 刘小煜; 夏成樑; 王乐

来源：激光与光电子学进展, 2018, 55(03): 460-466.

• 薄膜
• 原子层沉积
• 流场分析
• 均匀性
• 大曲率基底

通过建立原子层沉积(ALD)脉冲气体流场理论模型,分析了沉积过程中前驱体浓度的变化趋势,得到了原子层沉积腔中的优化沉积区域。在此基础上,开展了半球基底上Al2O3和TiO2薄膜的均匀性实验。实验结果表明,最佳优化区域内Al2O3和TiO2薄膜的最大非均匀性分别为1.81%和1.74%,相比于非优化区域分别减小了47.1%和50.8%。当入射激光与半球中心轴的夹角为θ=0°时,制备的减反膜反射率在550nm处达到最小值0.04%,θ=60°时反射率最大,为0.5%,而在其余位置反射率曲线均存在不同程度的偏移,当θ=60°时,偏移最大,为6nm。

• 单位
  光学与电子科技学院; 中国计量大学