摘要

采用脉冲激光沉积法(PLD)在(001)SrTiO_3基片上制备了基于Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3/SrRuO_3/SrRuO_3(PZT/SRO)的铁电隧穿结。利用多种表征手段测试并分析薄膜微观结构及电性能。结果表明:PZT和SRO薄膜具有良好的取向结晶性,实现了薄膜的外延生长。8 nm PZT薄膜具有稳定的铁电性能,在外电场为7 500×10~3 V·cm~(–1)时,其剩余极化(2P_r)为3.79×10~(–6)C·cm~(–2),矫顽场(2Ec)为4 300×10~3 V·cm~(–1)。室温条件下,隧穿结经±7 500×10~3 V·cm~(–1)电场极化后具...

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