用于磁控溅射膜的一种剥离技术

作者：刘娅; 杨正兵; 蒋欣; 李磊; 何西良; 徐阳

来源：压电与声光, 2018, 40(03): 331-333+336.

DOI：10.11977/j.issn.1004-2474.2018.03.006

• 磁控溅射
• 剥离工艺
• 双层胶
• 倒梯形
• 薄膜体声波谐振器(FBAR)

为了解决磁控溅射膜的剥离问题,该文研制了一种新型的双层胶剥离技术。通过调整双层光刻胶的坚膜时间、坚膜温度和显影时间,制备出好的光刻胶倒梯形形貌,得到磁控溅射膜较好的剥离效果。为薄膜体声波谐振器(FBAR)的研制提供了有意义的指导。

• 单位
  中国电子科技集团公司第二十六研究所