多弧镀及磁过滤阴极弧沉积TiN薄膜的摩擦学性能对比

作者：张玉娟; 吴志国; 张伟伟; 阎鹏勋; 刘维民; 薛群基

来源：摩擦学学报, 2004, (06): 498-502.

DOI：10.16078/j.tribology.2004.06.004

• 磁过滤等离子体沉积
• 多弧离子镀
• 氮化钛薄膜
• 摩擦学性能 filtered arc cathodic plasma deposition
• multi arc ion plating
• TiN film
• tribological properties

分别采用多弧离子镀(MAIP)和带有平面"S"形过滤管的磁过滤阴极弧设备(FCAP)在不锈钢基底上制备了2种TiN薄膜;采用往复式球-盘摩擦磨损试验机评价了2种薄膜的摩擦学性能;采用扫描电子显微镜观察和分析了薄膜磨斑表面形貌及其元素面分布.结果表明:采用FCAP技术制备的薄膜表面光滑、缺陷少、普遍具有明显的(111)面择优取向;而采用MAIP技术制备的薄膜表面存在较多大小不一的颗粒和孔洞,且无明显取向.在较低载荷下,采用FCAP薄膜表现出较好的抗磨性能,其磨斑表面存在沉积的TiN磨屑;而采用MAIP制备的薄膜磨斑表面无转移沉积磨屑,摩擦系数较高.

• 单位
  兰州大学; 中国科学院研究生院; 中科院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室