α籽晶促进低温反应溅射沉积α-Al₂O₃薄膜

作者：李修贤; 邱万奇; 焦东玲; 钟喜春; 刘仲武

来源：材料研究学报, 2022, 36(01): 8-12.

• 材料表面与界面
• α-Al2O3薄膜
• 反应溅射
• α籽晶
• 低温沉积

分别使用反应溅射Al+α-Al2O3（15%α-Al2O3,质量分数）复合靶和在金箔基体表面预植α-Al2O3籽晶,促进α-Al2O3薄膜的低温沉积。使用扫描电子显微镜（SEM）、掠入射X射线衍射（GIXRD）和能谱仪（EDS）等方法表征薄膜样品的表面形貌、相结构和元素组成。结果表明,在射频反应溅射Al+α-Al2O3复合靶、沉积温度为560℃条件下能在Si（100）基体上沉积出化学计量比的单相α-Al2O3薄膜;使用射频反应溅射Al靶、沉积温度为500℃条件下能在预植α-Al2O3籽晶（籽晶密度为10～6/cm2）的金箔表面沉积出化学计量比的单相α-Al2O3薄膜。两种研究方案的结果均表明,α-Al2O3籽晶能促进低温沉积单相α-Al2O3薄膜。

• 单位
  华南理工大学