添加TiN对MoS_2基复合薄膜结构和性能的影响

作者：李倩倩; 尹桂林; 郑慈航; 余震; 何丹农

来源：摩擦学学报, 2011, (01): 40-44.

DOI：10.16078/j.tribology.2011.01.003

• MoS2
• TiN
• 磁控反应溅射
• 摩擦磨损性能 MoS2
• TiN
• magnetron reaction-sputtering
• tribological property

通过磁控反应溅射方法制备MoSx-TiN复合薄膜,研究添加少量TiN对MoS2基薄膜结构和性能的影响.薄膜的结构和性能通过X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)及UMT-2多功能微摩擦磨损试验机等进行了表征.结果表明:与纯MoS2薄膜相比,少量TiN的添加使得MoSx-TiN复合薄膜(002)晶面择优取向且结构致密.与纯MoS2和MoS2-Ti薄膜相比,MoSx-TiN复合薄膜在潮湿大气条件下具有更优异的摩擦磨损性能,更低的摩擦系数.

• 单位
  上海交通大学; 纳米技术及应用国家工程研究中心