哈氏C-2000合金在800°C和1000°C的氧化行为(英文)

作者：袁亮; 胡锐; 张铁邦; 李金山; 张小庆

来源：Transactions of Nonferrous Metals Society of China, 2015, 25(01): 354-362.

• 氧化行为
• 哈氏C-2000
• 抛物线规律
• 退火孪晶
• 富Mo相

研究哈氏C-2000合金在(800°C,1000 h)和(1000°C,100 h)时的氧化行为。分别利用增重法、SEM、XRD和XPS表征氧化动力学和氧化膜的形貌特征。合金在800°C和1000°C时均基本满足抛物线速率规律。此外,由于退火孪晶提高了合金化元素及氧原子的扩散速率,因此,降低了合金的高温抗氧化性能。在800°C时,氧化膜微观结构主要是由NiO和Cr1.3Fe0.7O6组成。此外,初始退火孪晶结构在氧化后依然可见,且临近氧化膜附近出现了富Mo相。然而,在1000°C时,氧化膜的微观结构由细小的铬氧化物和粗大的镍氧化物颗粒通过相互镶嵌而构成,同时,在临近氧化膜处几乎无富Mo相出现。

• 单位
  西安菲尔特金属过滤材料有限公司; 西北工业大学; 凝固技术国家重点实验室