PECVD技术制备低折射率光学薄膜

作者：胡九龙; 杭凌侠; 周顺

来源：表面技术, 2013, (02): 95-97.

DOI：10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2013.02.003

• 薄膜
• PECVD
• 低折射率
• SiOF coating
• PECVD
• low-index
• SiOF

采用等离子体增强化学气相沉积法在硅片上沉积含氟氧化硅薄膜,用椭偏仪测量薄膜的光学参数,研究了在固定抽速和真空度自动调节情况下C2F6气体流量的变化对薄膜折射率、消光系数、沉积速率的影响。实验表明在温度300℃、射频功率200 W、压力20 Pa,SiH460 sccm,N2O440 sccm,C2F630 sccm的工艺参数下沉积的薄膜在550 nm处折射率为1.37,消光系数4×10-4,可作为光学减反膜的材料。

• 单位
  西安工业大学