CVD金刚石(膜)制备技术及应用进展

作者：马国欣; 向鹏; 邱胜宝; 邬纪泽

来源：真空电子技术, 2009, (05): 5-11.

DOI：10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2009.05.018

• CVD
• 金刚石
• 薄膜
• 应用 CVD
• Diamond
• Films
• Application

化学气相沉积(CVD)方法是金刚石(膜)制备的主流技术,经过多年的发展,已从最初的微米金刚石膜发展到纳米金刚石膜,至目前高质量的单晶金刚石,应用领域不断扩展。除了工业和民用领域外,纳米金刚石膜在MEMS/NEMS、生物医学的应用进展引起业界关注,其中大尺寸单晶金刚石的制备是推动这些应用的关键。本文分析了MPCVD金刚石成膜特点,讨论了现阶段CVD金刚石膜商业化推广应用的制约因素,展望了今后金刚石膜的发展前景。

• 单位
  广州中国科学院工业技术研究院; 华南理工大学