近年来，层状黑磷纳米结构由于其优异的光电子特性，已在晶体管、光电和逻辑器件应用中显示出巨大潜力。然而，黑磷的高成本及其在自然环境中的快速降解这两个关键问题严重限制了其实际应用。随着半导体的飞跃发展，类黑磷材料因为其优异的光电性能和高化学稳定性为实际应用揭开了广阔的前景。文章详细阐述了新兴类黑磷锑烯纳米材料合成和形貌控制的最新进展，以及构建基于黑磷锑烯纳米材料高性能器件的最新进展，总结了最新研究成果并对黑磷锑烯纳米材料未来研究的前景进行了展望。
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