原子层沉积技术及其在光学薄膜中的应用

作者：何俊鹏; 章岳光; 沈伟东; 刘旭; 顾培夫

来源：真空科学与技术学报, 2009, (02): 173-179.

DOI：10.13922/j.cnki.cjovst.2009.02.005

• 原子层沉积
• 光学薄膜
• 前驱体
• 光子晶体 Atomic layer deposition
• Optical thin films
• Precursor
• Photonic crystals

回顾了原子层沉积(ALD)技术的发展背景,通过分析ALD的基本工艺,并与传统薄膜制备工艺进行了对比研究,介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势。着重列举ALD在减反膜、紫外截止膜、折射率可调的薄膜、抗激光损伤薄膜及复杂结构光子晶体等方面的应用。同时指出了目前ALD工艺在光学薄膜应用中存在的主要问题,并对ALD未来的发展进行了展望。

• 单位
  现代光学仪器国家重点实验室