VLSI干蚀刻终点检测技术简介

作者：姚敏; 李宁

来源：科技资讯, 2008, (22): 41-42.

DOI：10.3969/j.issn.1672-3791.2008.22.029

• 集成电路
• 干蚀刻
• 终点检测

在蚀刻时会形成等离子体的蚀刻气体,他会蚀刻未受保护的区域。一旦检测到这一区域被刻蚀完成时,蚀刻反应马上被停止。这种停止刻蚀反应的检测手段被称为终点检测(endpoint)。

• 单位
  上海交通大学