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摘要
一种制作T型栅结构的电子束光刻方法,包括以下步骤：在GaN异质结平面材料上,涂覆低灵敏度高光刻剂量的一号光刻胶并烘烤；再在一号光刻胶上涂覆二号光刻胶并烘烤；二号光刻胶采用PMMA#MAA胶,PMMA#MAA胶的灵敏度高于PMAA,光刻剂量低于PMMA；再在二号光刻胶上涂覆三号光刻胶并烘烤；三号光刻胶仍采用PMMA#MAA胶；三号光刻胶的烘烤温度低于二号光刻胶的烘烤温度；随后经过电子束光刻、显影以及剥离工艺,最终形成带有undercut结构的T型栅结构。本发明能够更加便捷和可靠的制备T型栅。
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