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摘要
通过化学共沉淀法制备了钡铁氧体(BaFe12O19)粉末。利用这些粉末通过丝网印刷制备了钡铁氧体厚膜。厚膜的剩磁比在烧结前经过磁场处理后有较大的提高。XRD测试表明,钡铁氧体晶粒具有择优取向,其c轴沿着膜的法线方向进行排列。通过对厚膜进行后退火处理,厚膜的微观形貌有所改善。厚膜表面的气孔数量有所降低,并且剩磁比有所提高。这可以由厚膜的晶粒在后退火处理下均匀长大,完善结晶并降低气孔率来解释。
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单位电子薄膜与集成器件国家重点实验室; 电子科技大学
