第二十讲 真空离子镀膜

作者：张以忱

来源：真空, 2020, 57(05): 85-88.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2020.05.18

• 离子镀膜
• 伏安特性
• 磁控溅射离子镀
• 等离子区
• 电弧离子镀
• 镀膜室
• 离子能量
• 聚焦线圈
• 放电室

<正>(接2020年第4期第96页)13.6负偏压对膜沉积过程的影响13.6.1直流偏压真空阴极电弧离子镀一般配置直流负偏压电源。它的正极接镀膜室壳(阳极接地),其阴极连接在基片(工件)上。其负电压从0～-1000V可调,构成对阴极电弧源(靶)和电弧放电等离子体负电位。正是带负偏压基片在等离子体中,

• 单位
  东北大学