基于跨键能量转移机理新型氟硼吡咯类荧光染料的合成

作者：刘涛

来源：承德石油高等专科学校学报, 2014, 16(04): 51-56.

DOI：10.13377/j.cnki.jcpc.2014.04.004

• 跨键能量转移
• 氟硼吡咯染料
• 斯托克斯位移

氟硼吡咯类染料通常具有非常小的斯托克斯位移,这严重影响了其实际应用。采用跨键能量转移机理,通过将萘酰亚胺母体与氟硼吡咯染料母体以共价键直接相连的方式合成了新颖的氟硼吡咯类染料分子,1H-NMR、MS验证其结构正确。光谱研究表明,目标染料斯托克斯位移增大到150 nm,有效地克服了此类染料小斯托克斯位移的缺点。

• 单位
  承德石油高等专科学校