Ni掺杂W18O49/ITO-PET电致变色薄膜性能研究

作者：朱多银; 金志浩; 岳君容; 张建岭; 崔彦斌^*

来源：光电子技术, 2021, 41(04): 289-314.

DOI：10.19453/j.cnki.1005-488x.2021.04.008

• 镍掺杂
• 氧化钨
• 电致变色薄膜
• 溶剂热法
• 柔性基底

以WCl6和NiCl2·6H2O为钨源和镍源、PVP为表面活性剂、无水乙醇为溶剂,采用溶剂热法制备得到非化学计量比的W18O49和Ni掺杂W18O49纳米线(Ni-W18O49),并利用雾化沉积法将W18O49和Ni-W18O49纳米线喷涂在柔性ITO-PET透明导电基底得到W18O49/ITO-PET和NiW18O49/ITO-PET电致变色薄膜。测试结果表明,Ni掺杂使W18O49/ITO-PET电致变色薄膜着色/褪色响应时间由16.5 s/8.2 s减小为10 s/5.8 s,着色效率由56 cm2·C-1增至74 cm2·C-1。Ni-W18O49/ITO-PET电致变色薄膜经1 500次充放电后容量保持率仍为70%。Ni掺杂W18O49使W5+和氧空位含量增加,降低电荷转移阻力,从而改善电致变色性能。

• 单位
  沈阳化工大学; 中国科学院过程工程研究所; 多相复杂系统国家重点实验室