溅射偏压对CrN薄膜结构以及抗指纹性能的影响

作者：王银燕; 张保举; 鲍明东^*

来源：宁波工程学院学报, 2021, 33(04): 1-6.

• 磁控溅射
• 溅射偏压
• 表面形貌
• 接触角
• 抗指纹性能

试验采用磁控溅射镀膜技术制备CrN薄膜,研究了不同溅射偏压下制成的薄膜的粗糙度、表面形貌、断面特征、人工汗液接触角的变化规律以及薄膜的抗指纹性能。结果表明:随着溅射偏压(0 V～120 V)的增加,其粗糙度增加、表面颗粒凸起数量增加、薄膜厚度逐渐减小。当溅射偏压大于60 V时,薄膜则因偏压的增大导致其表面能增加,薄膜的晶粒尺寸变大、生长取向从择优取向转变为多方向取向。当溅射偏压大于60 V时,薄膜与人工汗液的接触角明显降低,薄膜表面的残留指纹宽度显著增加,说明CrN薄膜在溅射偏压为60 V时抗指纹性能最优。

• 单位
  宁波工程学院