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摘要
为实现长光纤光栅的精确制作,围绕整体曝光法分析了光束平行度和截面光强分布对光栅刻制的影响,设计了一套光束扩束系统,使用Zemax软件对扩束后的光束平行度和截面光强进行了仿真分析和优化,并进行了光束平行度对光栅刻制的影响实验,验证了理论分析结果。
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为实现长光纤光栅的精确制作,围绕整体曝光法分析了光束平行度和截面光强分布对光栅刻制的影响,设计了一套光束扩束系统,使用Zemax软件对扩束后的光束平行度和截面光强进行了仿真分析和优化,并进行了光束平行度对光栅刻制的影响实验,验证了理论分析结果。
