高岭石/2-吡嗪羧酸插层化合物的制备及其铁电性质

作者：赵顺平; 郭玉; 徐衡; 汪婕; 冯小亮; 朱苗苗

来源：材料科学与工程学报, 2021, 39(04): 605-646.

DOI：10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2021.04.012

• 高岭石
• 2-吡嗪羧酸
• 插层
• 高压釜
• 铁电

本研究试图以高岭石为主体材料,制备一类新的有机-无机杂化铁电材料。具体做法是以杂环化合物2-吡嗪羧酸为客体,在高压釜中制备高岭石/2-吡嗪羧酸插层化合物,该产物经X射线衍射(XRD)、红外光谱(IR)、热分析曲线(TG)表征和铁电性质测试,并通过CASTEP程序计算优化获得可能的插层结构。研究结果表明:依靠体系自增压,2-吡嗪羧酸分子在160℃、10h条件下可插入高岭石层间,撑大其层间距至1.39nm,插层率为42.73%;客体分子以几乎垂直方式定向于高岭石层间;该化合物具有室温铁电性和一定的热稳定性(<100℃)。

• 单位
  安庆师范大学; 化学化工学院