沟槽式FS-IGBT各部分对其性能的影响研究

作者：张满红; 邹其峰^*

来源：现代电子技术, 2018, 41(14): 5-9.

DOI：10.16652/j.issn.1004-373x.2018.14.002

• FS-IGBT
• Sentaurus TCAD
• 结构仿真
• 电学特性
• 性能影响
• 导通电压

沟槽式FS-IGBT是当前IGBT中最为先进的结构,它结合PT-IGBT和NPT-IGBT各自的优点,具有较薄的N-区以及FS场截止层,能够使导通压降更低并且可以有效减少关断时间和关断损耗。主要通过仿真软件Sentaurus TCAD对FS-IGBT进行工艺与电学特性仿真,通过改变不同部分的参数,如栅极的长宽,N型漂移区的厚度,P-base区的注入剂量及能量等,研究对其性能的影响。结果表明栅极的长宽和漂移区厚度的增加会使BV变大,场截止层电阻率的增加会使导通电压变小,阈值电压会随着P-base区的注入剂量及能量的变大而变大。通过仿真结果得到了结构参数对器件性能的影响,为FS-IGBT的设计提供参考。

• 单位
  华北电力大学