聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源

作者：王凯歌王雷王鹏业牛憨笨

来源：应用光学, 2004, (01): 5-8+38.

• 微束斑X射线源
• 电子束离子源
• 电子束离子陷阱
• 离子光学聚束系统 microfocal X-ray source
• electron beam ion source
• electron beam ion trap
• ion-optical focusing system

利用电子束离子源 (EBIS)或者电子束离子陷阱 (EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面 ,离子束与靶面作用并复合辐射特征 X射线 ;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用 ,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳米级的微束斑 X射线。本文介绍这一新型微束斑 X射线源的结构、机理及其特性等。

• 单位
  中国科学院; 中国科学院物理研究所; 中国科学院西安光学精密机械研究所; 西安应用光学研究所