CVD法制声表面波基片金刚石层细晶粒的生长研究

作者：何敬晖; 玄真武; 刘尔凯

来源：超硬材料工程, 2005, (05): 9-12.

• 金刚石膜
• 化学气相沉积法
• 低气压
• 细晶粒
• 拉曼分析 diamond film
• chemical vapor deposition method
• low air pressure
• fine crystal
• Raman analysis

金刚石/硅声表面波基片的金刚石层晶粒的细化有利于传播能量损耗的降低,采用热丝化学气相沉积法进行了硅基体上沉积细晶粒金刚石工艺的初步探索。探讨了基体温度、气压、氩气和甲烷浓度等因素对金刚石细晶粒生长的影响。对相应样品进行了扫描电镜和拉曼散射光谱分析。结果表明:在低气压范围、相同氩气浓度下,随着气压的降低,甲烷浓度也要相应降低,才能保证类似的金刚石结晶质量。同时,降低气压达到一定值后,金刚石晶粒尺寸变小,经测试可达到纳米级。