摘要
本发明公开了一种薄膜晶体管、阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法,以提高薄膜晶体管半导体层的抗酸性,并降低薄膜晶体管的制备成本。薄膜晶体管包括半导体层,所述半导体层包括掺入锡的氧化锆。在本发明的技术方案中,退火处理后的半导体层的抗酸性较强,可以在其表面通过湿法刻蚀形成源漏电极层,相比现有技术,无需设置刻蚀阻挡层,因此,薄膜晶体管的制备工艺得到了简化,生产成本较低;并且,氧化锆中掺入锡后,锡可以调控氧化锆的能带结构,使氧化锆的能级发生变化,进而容易形成载流子,增强了半导体层的导电性;此外,该薄膜晶体管的半导体层不包含铟,因此大大降低了制备成本。
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单位京东方科技集团股份有限公司; 华南理工大学