电子束曝光机的一种新型精密工件台结构特点及几何精度分析

作者：乔俊仙; 王肇志; 余国彬

来源：电子工业专用设备, 2005, (06): 11-13+21.

• 电子束曝光机
• 精密工件台
• 结构设计
• 几何精度 E-Beam lithography machine
• Precision stage
• Accuracy analysis

介绍了电子束曝光机的一种新型精密工件台,在结构上成功地将工件台的承载力与导轨的导向作用分离开来,极大地提高了工件台的运动精度和运行的平稳性。论述了精密工件台的结构设计要点、几何精度以及达到的技术指标。

• 单位
  中国科学院光电技术研究所; 中国科学院研究生院