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摘要
采用热原子层沉积的方法,以三甲基铝(TMA)为铝源,配合H2O、O3及H2O+O3这3种不同的氧化剂制备Al2O3薄膜并研究Al2O3薄膜的生长、元素分布、薄膜结构和表面钝化质量随氧化剂种类和后退火工艺的变化规律。结果表明,H2O基的Al2O3薄膜具有较高的沉积速率及薄膜折射率,同时具有较低的杂质元素浓度和界面态缺陷密度;O3基的Al2O3薄膜则具有较高的固定负电荷密度和较好的热稳定性。通过在O3工艺中加入H2O,可有效降低Al2O3薄膜中杂质元素浓度和界面缺陷态密度,同时保留O3基Al2O3薄膜中较高的固定负电荷密度,从而在钝化性能上兼具两者的优势。
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