高次模多注速调管同轴输出腔性能改进的研究

作者：韩慧鹏; 王勇; 张瑞

来源：电子与信息学报, 2011, 33(8): 1981-1987.

DOI：10.3724/SP.J.1146.2010.01308

• 高次模多注速调管
• 同轴输出腔
• 杂模抑制
• 外观品质因数
• 场分布

该文针对工作在TM310模的多注速调管同轴输出腔中工作模式的场分布均匀性、外观品质因数及其与邻近模式的频率间隔等问题进行了研究,提出了一种带有短路杆和金属环的多注速调管同轴输出腔结构.分析发现,适当设置短路杆和金属环不仅可以使外观品质因数降低,还可以改善工作模式的场分布；而且设置金属环还可以增大TM310模和邻近模式的频率间隔以实现抑制杂模.利用仿真软件对X波段的同轴输出腔进行了模拟计算,计算结果与理论分析一致.在此基础上加工了冷测模型,测试结果表明TM310模与邻近模式的频率间隔均达到了1.2 GHz以上,外观品质因数从507.4降至193.5,工作模式的场分布也变得均匀.

• 单位
  中国科学院研究生院; 中国科学院电子学研究所