科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
摘要
本实用新型公开了一种提高干法刻蚀薄膜均匀性的托盘,涉及刻蚀设备技术领域,本实用新型包括带有凸起锥形的托盘、且托盘均匀分布多个通孔,密封O型圈,玻璃基板盖板或者压环,所述凸起锥形的顶点为玻璃基板覆盖区域中心,所刻蚀玻璃基板固定于凸起锥形的托盘上并压紧,刻蚀过程中通孔通入冷却媒介气体。本实用新型解决了现有技术在刻蚀较薄玻璃基板上薄膜过程中,基片的制冷效果与刻蚀均匀性不可兼得的问题。
- 单位
本实用新型公开了一种提高干法刻蚀薄膜均匀性的托盘,涉及刻蚀设备技术领域,本实用新型包括带有凸起锥形的托盘、且托盘均匀分布多个通孔,密封O型圈,玻璃基板盖板或者压环,所述凸起锥形的顶点为玻璃基板覆盖区域中心,所刻蚀玻璃基板固定于凸起锥形的托盘上并压紧,刻蚀过程中通孔通入冷却媒介气体。本实用新型解决了现有技术在刻蚀较薄玻璃基板上薄膜过程中,基片的制冷效果与刻蚀均匀性不可兼得的问题。
