应用于石墨烯制备的CVD反应炉研制

作者：高超; 张吉峰^*; 唐榕

来源：真空, 2020, 57(03): 30-33.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2020.03.07

• 石墨烯
• CVD
• 温度控制
• 反应室压力调节
• 闭环控制

本文介绍了应用于石墨烯制备的CVD反应炉的工艺原理及技术特点,并以一台已经研制成功的CVD反应炉为例,详细阐述了该设备的相关设计思路及特点。该设备采用先进的控温技术控制加热器的快速升温,通过闭环控制实现了工艺过程中腔室压力的自动控制,具有控制精度高、响应快、一致性好等优点。