邻苯二甲酸二丁酯印迹聚合物的制备及其吸附性能研究

作者：王丽聪; WANG Licong

来源：盐城工学院学报(自然科学版), 2017, 30(1): 46-51.

DOI：10.16018/j.cnki.cn32-1650/n.201701010

• 邻苯二甲酸二丁酯
• 分子印迹
• 沉淀聚合吸附

以邻苯二甲酸二丁酯(DBP)为模板分子、甲基丙烯酸(MAA)为功能单体、乙二醇二甲基丙烯酸酯(EGDMA)为交联剂、乙腈为溶剂,采用沉淀聚合法制备分子印迹聚合物(MIPs),并利用扫描电镜及红外吸收光谱法对MIPs进行表征,采用Scatchard和Langmuir模型进行分析.结果表明:(1)印迹聚合物对模板分子存在2类不同结合位点,一类结合位点的解离常数Kd1=0.053 g/L,最大表观结合量Qmax1=27.3 mg/g;另一类结合位点的解离常数Kd2=0.16 g/L,最大表观结合量Qmax2=42.8 mg/g.(2)吸附过程较好地满足Langmuir吸附方程,饱和吸附量为31.7 mg/g.

• 单位
  江阴职业技术学院