纳米SiO2颗粒表面疏水化改性与调控

作者：燕永利; 宋兆洋; 吴春生; 贺炳成

来源：应用化工, 2020, 49(05): 1092-1095.

DOI：10.16581/j.cnki.issn1671-3206.2020.05.002

• 纳米二氧化硅
• 疏水化改性
• 粒径
• 接触角
• 调控

以原硅酸四乙酯(TEOS)作为硅源,使用St?ber法,制备出分布均匀、粒径大小可控的纳米SiO2颗粒,探讨了氨水用量、改性剂用量、反应温度以及反应时间对其粒径的影响。以二氯二甲基硅烷作为纳米SiO2的修饰改性剂,采用激光粒度仪和接触角测量仪对纳米SiO2颗粒粒径和接触角进行了表征。结果表明,St?ber法制备的纳米SiO2颗粒粒径平均在40 nm,当氨水用量逐渐增加时,纳米SiO2颗粒粒径逐渐增大;当反应温度逐渐升高时,纳米SiO2颗粒粒径逐渐减小;当反应时间逐渐增加时,纳米SiO2颗粒粒径呈现逐渐增大的趋势,后趋于稳定。改性实验结果表明,纳米SiO2接触角随改性剂二氯二甲基硅烷用量的增加而变大,其接触角在40.9～146.1°范围内可调。当二氯二甲基硅烷的用量为7.5%时,接触角达到最大值146.1°。修饰改性后纳米SiO2颗粒可减少其团聚,颗粒更加分散均匀,由此实现了通过改性剂加量对纳米SiO2颗粒表面润湿性的调控。

• 单位
  西安石油大学; 化学化工学院