氧化物靶材是一种关键性镀膜基材，主要用于磁控溅射制备TFT薄膜，并将其应用于晶体管等器件中透明电极、半导体沟道层，同时也广泛应用于显示面板领域。为满足高性能器件对薄膜的要求，氧化物靶材逐渐向高致密、大尺寸、异形化方向发展。以显示行业中氧化物靶材作为重点，介绍了氧化物靶材制备流程，主要从素坯成型、烧结工艺两个角度对氧化物靶材进行总结，分析了烧结工艺对靶材参数与溅射薄膜电阻率、光学透射率及粗糙度等方面的影响，最后阐述了国内外氧化物靶材市场的现状及发展趋势。
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