钕铁硼磁性材料磷化过程电位影响因素研究

作者：王春明; 林伟; 赵鹏亮

来源：材料保护, 2005, (02): 20-23+81.

DOI：10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2005.02.006

• 磷化
• 钕铁硼磁性材料
• 电位 phosphating
• NdFeB magnetic material
• potential

为了研究钕铁硼磁性材料的磷化机理,并研制钕铁硼磁性材料的磷化剂,应用电化学方法研究了游离酸度、温度、促进剂、表面活性剂对钕铁硼磁性材料磷化动力学行为的影响。结果表明,钕铁硼磁性材料磷化动力学的过程分为:金属阳极溶解→钝化→金属阳极溶解→磷化成膜 4步;所形成的化学转化膜并非单一的磷化膜,而是磷化和钝化的混合膜;游离酸度、温度以及促进剂对钕铁硼磷化影响较大,过高的游离酸度(高于 4. 8)和温度 (高于 40℃)将改变其磷化动力学的过程,使磷化难以成膜或膜层粗糙;促进剂能加速磷化的进行,但氧化性过强的促进剂(氯酸钠)只能增强钕铁硼磁性材料表面的钝化,而不能形成磷化膜。通过正交试验法,确定了钕铁硼...

• 单位
  上海应用技术学院