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摘要
本文在电沉积镍的镀液中添加Si C颗粒于铜基体上制备Ni-Si C复合镀层,研究了表面活性剂种类和增强颗粒粒度对Ni-Si C复合镀层中碳化硅含量及分布均匀性的影响。Si C颗粒的粒度影响形核过电位,40 nm Si C颗粒比500 nm Si C颗粒提供更多成核活性点,且对于镍电结晶形核促进作用更明显。表面活性SDS对40 nm Si C颗粒的分散效果较CTAB更好,二者对500 nm Si C颗粒分散效果相似。CTAB从某种程度上增加了Si C颗粒的含量,但对于Si C颗粒的分散效果不佳,Si C颗粒仍有大量团聚,且通过阳离子表面活性剂CTAB所获镀层表面比较暗淡、粗糙。
