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摘要
基于硅酸盐电解液体系，在纯镁、AZ91D镁合金基体上制备微弧氧化膜，通过不同的表征手段对比两种基体材料下膜层的耐蚀性能.结果表明：AZ91D镁合金表面微弧氧化膜层的成膜性更好，且膜层中Mg2SiO4、MgF2等物相更多，因此，点滴、电化学耐蚀性更好.纯镁微弧氧化膜在整个腐蚀过程中表现为全面腐蚀，在腐蚀后期基本丧失对基体的保护作用，而AZ91D镁合金微弧氧化膜层在浸泡后期出现了局部腐蚀，但仍然可以有效地保护基体.合金化后由于不同元素电极电位的不同，使得微弧氧化在基体表面α、β相区域出现了选择性起弧，这种交替的击穿放电现象有利于膜层致密度、成分及缺陷等微观组织结构特征参量的改善，从而使得AZ91D镁合金表面微弧氧化膜层具有更好的耐蚀性能.
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