登录
免费注册
首页
论文
论文详情
赞
收藏
引用
分享
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
低应力化学沉铜浅析
作者:张亚平; 杨之诚; 孔令文; 杨智勤
来源:
印制电路信息
, 2010, (08): 35-39.
低应力化学沉铜
ABF
抗剥强度 the SAP electroless copper process
ABF
peel strength
摘要
文章简述了低应力化学沉铜的工艺特点,通过简单的对比实验分析了其与传统化学沉铜的不同,以期加深读者对低应力化学沉铜工艺的理解。
单位
深南电路有限公司
相似论文
引用论文
参考文献