利用原子层沉积技术共形生长的特点，同时利用自组装掩模刻蚀技术，在单晶硅基底上制备了具有低深宽比和满占空比特点的Al2O3-Si复合微纳结构表面。光谱反射率测试结果表明，在底端满占空比、微结构深宽比接近1:1的情况下，入射角在8°时复合微纳结构表面在3～5μm谱段的平均反射率小于3.5%。纳米压痕测试结果表明，Al2O3-Si复合微纳结构表面的弹性恢复率较单一硅基底结构增加10.14%,证明沉积氧化铝薄膜具有提升抗反射微纳结构力学性能的作用。
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