氮化钛薄膜具有出色的涂层性能，如高硬度、低电阻率和良好的耐蚀耐磨性等，在汽车、航空航天和生物医学中有着广泛的应用。磁控溅射技术因其成本低、沉积速率高以及绿色环保等优势，成为氮化钛薄膜制备的主要技术之一。综述了磁控溅射工艺参数对氮化钛薄膜择优取向、晶粒大小、膜层厚度、相组成和力学性能等的影响规律和作用机制。另外，还讨论了掺杂元素的种类、浓度和不同的退火温度对氮化钛薄膜组织结构与性能的影响。最后，提出了磁控溅射制备氮化钛薄膜的研究难点，并展望了未来磁控溅射技术制备氮化钛薄膜的发展方向。
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