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摘要
为了实现掩膜面的均匀照明,采用非球面技术对浸没式光刻照明系统中会聚镜进行了设计,并对影响系统远心度的误差源进行了分析。设计的会聚镜数值孔径的一致性偏差在0.2%以内,像方远心度小于0.2 mrad,以系统的远心度变化0.1 mrad,数值孔径一致性变化0.1%,点列图变化20μm,焦距变化0.1 mm为公差基础值,计算出会聚镜的厚度公差为±0.02 mm～±0.05 mm,单面倾斜10″～20″。该浸没式光刻照明系统中会聚镜的设计合理,制定的公差可行,能够满足硅片面上照明非均匀性小于3%的要求。
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单位吉林工程技术师范学院; 长春理工大学
