一种低温下快速调控变形钨材料显微组织的退火工艺

作者:谭晓月; 吴玉程; 王武杰; 罗来马; 朱晓勇; 刘家琴; 吴眉
来源:2019-06-24, 中国, CN201910547049.1.

摘要

本发明公开了一种低温下快速调控变形钨(W)材料显微组织的退火工艺,采用放电等离子体烧结(SPS)技术对样品进行加热,并利用其作用在样品上的直流脉冲电流,加速变形W材料的显微组织演变。通过改变SPS工艺参数对W材料的显微组织进行调控。本发明采用SPS技术对W材料实现高效、节能退火处理,调控其显微组织。选用的退火温度低于1000℃,整个退火工艺持续时间小于60min,相比常规真空条件下变形W材料退火(在1350℃下再结晶退火需要保温数小时)表现出明显的优势。