配体调控GONR催化H2O2还原HAuCl4-RRS法测定Ni2+

作者：李欣; 张杏辉; 梁爱惠; 蒋治良

来源：光谱学与光谱分析, 2018, 38(S1): 271-272.

• RRS
• 配体调控
• GONR催化
• 金纳米粒子
• 2+" name="keyword">Ni2+

在60℃水浴条件下,过氧化氢(H2O2)还原HAuCl4生成金纳米溶胶反应缓慢,加入氧化石墨烯纳米带(GONR)等纳米酶催化剂后,反应加快。当有丁二酮肟(DMG)配体存在时,DMG吸附在GONRs表面,导致GONR的催化作用减弱;而当溶液中存在Ni2+时,形成Ni(DMG)2复合物,使DMG从GONRs表面脱附,此时GONRs得到释放,使得从而GONRs催化效应活化,催化作用增强。随着Ni2+浓度的增加,脱附的GONRs越多,催化H2O2-HAuCl4反应加快,体系生成的金纳米粒子增多,体系的RRS信号增强,当Ni2+浓度在0.070.98μmol·L-1浓度范围内,ΔI540nm与Ni2+浓度呈良好的线性关系,线性方程为ΔI540nm=729.31c+32.049,线性相关系数R2=0.991 4,检测限为0.028μmol·L-1。

• 单位
  广西师范大学