DND@CeO2核壳型磨料的制备及其在蓝宝石表面的抛光机理研究

作者：周晨; 许向阳^*; 林顺天; 姚云飞

来源：矿冶工程, 2021, 41(02): 115-120.

• 复合磨料
• 纳米金刚石
• 氧化铈
• 化学机械抛光
• 蓝宝石
• 抛光磨料

采用原位化学沉淀法,将氧化铈(CeO2)包覆于爆轰纳米金刚石(DND)颗粒上,制得DND@CeO2复合磨料。复合磨料的最佳抛光工艺参数为:抛光压力4 kg、抛光盘转速120 r/min、抛光液流量70 mL/min、抛光液质量浓度1%、抛光液pH=10,此条件下复合磨料最大材料去除率可达73.26 nm/min,且抛光后的蓝宝石表面粗糙度可达4.47 nm,较CeO2(粗糙度17.21 nm)和DND磨料(粗糙度24.1 nm)更优。分析抛光机理可知,复合磨料抛光性能的改善归因于蓝宝石表面与CeO2发生了固相化学反应,形成较软的变质层,而DND可有效去除此反应层。

• 单位
  生物工程学院