TC4在液体推进剂单推-3中电化学腐蚀机理研究

作者：唐占梅^*; 郭伟; 蒋榕培; 方涛

来源：推进技术, 2022, 43(12): 402-409.

DOI：10.13675/j.cnki.tjjs.210827

• 电化学腐蚀
• 钛合金
• 液体推进剂
• 钝化膜
• 点蚀电位

为了开发推进剂/金属材料电化学加速试验技术，需要掌握材料的腐蚀特性。本文采用电化学测试方法，结合扫描电镜(SEM)、光电子能谱(XPS)分析手段，研究了钛合金TC4在液体推进剂单推-3中的电化学腐蚀行为与机理。结果表明：TC4在单推-3中的自腐蚀电流密度约为95nA/cm2，腐蚀速率约为0.8μm/a，抗均匀腐蚀性能良好，TC4在单推-3中可长期使用；TC4在单推-3中具有两段不同的钝化电位区间，随着极化电位的正移，最终形成外层为TiO2薄膜、中间Al2O3阻挡层、内层为TiO+Ti2O3的三层结构特征的钝化膜，并具有很正的点蚀电位；单推-3中主要组分肼和硝酸肼对TC4钝化膜的破裂溶解过程具有协同作用。

• 单位
  北京航天试验技术研究所