摘要

利用不连续增重法,研究了不同Si含量的Hastelloy N合金850℃恒温氧化行为。结果表明,随Si含量的增加,氧化动力学曲线保持抛物线规律。氧化100 h后,氧化膜出现分层现象,最外层均为NiO、NiFe2O4等复合氧化物,中间层为Cr2O3、MoO2等氧化物。由于在氧化层与基体界面处形成连续致密的SiO2层,有效阻止Cr离子向外扩散进入氧化层,促进Hastelloy N合金中间层形成较为致密的Cr2O3氧化层,提高了合金的抗氧化性能。