微弧氧化电解液MgSiF6质量浓度对钛-瓷结合强度的影响

作者：袁慕洁; 张绍君; 刘杰; 谈飞

来源：中华口腔医学杂志, 2018, 53(02): 111-115.

• 钛
• 氟化物
• 微弧氧化

目的探讨微弧氧化电解液MgSiF6质量浓度对钛-瓷结合强度的影响,为其进一步临床应用提供参考。方法将50个纯钛试件分成5组(每组10个),对照组仅喷砂处理,剩余4组喷砂后分别用质量浓度为10、20、30、40 g/L的MgSiF6电解液进行微弧氧化。每组选2个试件,扫描电镜观察表面形貌。每组试件烤瓷后选2个试件,扫描电镜观察钛-瓷结合界面并进行能谱分析,每组剩余6个试件通过三点弯曲实验测定钛-瓷结合强度。结果 20 g/L MgSiF6电解液制备的陶瓷膜均匀多孔,孔径为1.0～2.0μm,其余各组陶瓷膜均存在不同程度的结构缺陷。对照组钛-瓷结合强度为(27.08±3.16)MPa,10、20、30、40 g/L MgSiF6组钛-瓷结合强度分别为(38.18±2.65)、(44.75±2.21)、(36.44±2.04)、(31.04±2.59)MPa,各MgSiF6组钛-瓷结合强度均显著高于对照组(P<0.05);20 g/L MgSiF6组钛-瓷结合强度均显著高于其他MgSiF6组(P<0.05)。20 g/L MgSiF6组钛-瓷结合界面质地致密且无明显界限,其他各组均可见孔洞或裂隙。结论以20 g/L MgSiF6电解液对纯钛进行微弧氧化可有效提高钛-瓷结合强度。

• 单位
  青岛大学附属医院