电子屏蔽罩支架平面度超差原因分析及控制

作者：张金梁; 曹建国^*; 邵长伟; 杜磊; 武欢; 代先东

来源：锻压技术, 2022, 47(11): 109-115.

DOI：10.13330/j.issn.1000-3940.2022.11.015

• 屏蔽罩支架
• 平面度
• 回弹
• 翘曲
• 精冲

屏蔽罩支架是屏蔽罩的重要组成部分，为解决屏蔽罩支架产品的平面度超差问题，对其产生原因和工艺优化进行了分析。首先，采用数值模拟技术，探讨了顶料力、压边及压边力和板料工艺结构等因素对屏蔽罩支架成形质量的影响，结果表明，增大顶料力、添加压边圈并全拉深、增加压边力、改进工艺结构有利于抑制该薄板冲压件的翘曲倾向。然后，根据影响因素设计了优化方案并最终通过实物实验，发现在精冲结束后增加一道过压量为0.01 mm的过压整形工序，以及更改引伸工序前面板料工艺结构为C型的优化方案有利于抑制翘曲，同时采用两种优化方案可以将平面度从0.6～0.8 mm减小至0.3～0.5 mm。

• 单位
  四川大学