碳化硅技术陶瓷无压烧结工艺研究

作者：王坤

来源：陶瓷, 2019, (06): 43-53.

DOI：10.19397/j.cnki.ceramics.2019.06.009

• 高温焙烧法
• 氮掺杂
• 催化降解率
• 转化率
• 选择性

碳化硅陶瓷具有诸多优异的性能,被广泛应用于很多领域,碳化硅陶瓷的制备常用无压烧结法。无压烧结具有操作简单、成本低、可制备形状复杂和大尺寸的碳化硅部件,而且相对容易实现工业化生产等特点,因此无压烧结是碳化硅陶瓷制备中最有前途的烧结方法。本实验采用无压烧结,在α-SiC粉体中添加不同含量粒度为1μm的β-SiC,烧结助剂为碳化硼,粘结剂为酚醛树脂,保护气氛为氩气,烧结温度为2 010℃,烧结时间为40 min。分析烧结体的性能,确定烧结体性能最佳时的β-SiC添加量。实验结果表明:β-SiC添加量为10 wt%时,烧结体体积密度最高,可达3.128 g/cm3。初步确定最佳的β-SiC添加量为10 wt%。

• 单位
  新沂市星辰新材料科技有限公司