恒定气压下流量对溅射AlN薄膜结构性能的影响

作者：杨杰; 马晋毅; 杜波; 徐阳; 石玉

来源：压电与声光, 2014, 36(02): 217-220.

• 溅射
• 氮化铝(AlN)薄膜
• 通入气体流量
• 结构特性

研究了恒定气压下、通入不同气体流量对射频磁控溅射原位沉积氮化铝(AlN)薄膜应力、结晶质量和表面形貌的影响。利用应力分析仪、X线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和台阶仪对AlN薄膜的结构特性进行了分析。结果表明,恒定气压下改变通入气体流量对薄膜应力、结晶质量、表面形貌及粗糙度和薄膜沉积速率均有影响。当通入气体流量为10cm3/min时,AlN薄膜呈明显的压应力,结晶质量较差。增加通入气体流量降低了薄膜沉积速率和增加了表面粗糙度,但有利于减小薄膜的压应力和提高薄膜的结晶质量。本实验条件下得出的溅射AlN薄膜的最佳流量条件为50cm3/min。

• 单位
  电子科技大学; 电子薄膜与集成器件国家重点实验室